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求人情報更新日 : 10月03日 検索可能求人数 ： 4826件 |
日本エー・エス・エム株式会社
| 業務内容 | ■プラズマCVD装置による成膜プロセス開発（プラズマCVD装置にて形成する半導体デバイス用の層間絶縁膜・反射防止膜・最終保護膜等の開発/改善）、およびプロセス技術の改善。※韓国、台湾、米国などの海外からの需要も大きいことから、数日-数週間に亘る海外出張、長期駐在（国内外とも）があり得ます。 |
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| 応募要件 | 【必須要件】※下記いずれかのご経験■プラズマ/減圧CVD装置、枚葉RTP装置、エピタキシャル成長装置のサービスエンジニア経験■前工程の半導体製造装置（Etcher、Sputterなど）のサービスエンジニア経験■検査装置等の産業機械のサービスエンジニアの経験【尚可要件】■国内顧客先での1年以上の常駐ができる方（この他に海外では、米国、台湾、韓国等への3ヶ月程度の出張・赴任があります）■プロセス工程が分かる方■語学力（英語＆韓国語） |
| 年齢 | --- |
| 予定勤務地 | 広島県,三重県 |
| 学歴 | 430万 〜 530万 |
| 年収 | 経験に応じて |
